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首頁-產品系統-管式爐-1200℃迷你型真空氣氛管式爐

1200℃迷你型真空氣氛管式爐

1200℃迷你型真空氣氛管式爐適用范圍：主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。

更新日期：2025-04-03

型號：

廠商性質：生產廠家

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